SK하이닉스 반도체 기술 유출한 협력사 부사장 2심도 실형

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SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출하고 삼성전자 자회사의 장비 도면을 빼돌린 혐의로 기소된 협력사 부사장이 2심에서 1심보다 더 무거운 형을 선고 받았습니다.

서울고법 형사7부는 영업비밀 국외누설 등 혐의로 재판에 넘겨진 SK하이닉스 협력업체 부사장에게 1심보다 6개월 늘어난 징역 1년 6개월형을 선고했습니다.

1심에서 징역형의 집행유예를 선고받은 연구소장 등 다른 직원 3명도 징역 1년~1년 6개월의 실형으로 형이 늘었고, 협력사 법인은 1심의 벌금 4억 원보다 많은 벌금 10억 원을 선고받았습니다.

1심에선 이들이 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 혐의를 무죄로 본 반면 항소심은 유죄로 판단했기 때문입니다.

재판부는 "피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리나라 산업 전반에 큰 영향을 미쳤다"며 "특히 부사장은 최종 결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여했다"고 했습니다.

이들은 SK하이닉스와 협업하며 알게 된 HKMG 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년쯤부터 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌습니다.

또 삼성전자와 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 세메스의 '초임계' 세정 장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받고 있습니다.