
오늘(27일) 자유시보·대만중앙통신 등에 따르면, 대만 고등검찰서 지적재산권분서는 국가보안법상 '국가핵심 주요기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 적용해 3명을 기소했다고 밝혔습니다.
대만 검찰은 TSMC에서 퇴직 후 도쿄일렉트론으로 이직한 천 모 씨가 TSMC에서 일하던 다른 2명으로부터 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 기술 도면을 넘겨받은 것으로 보고 있습니다.
대만 검찰은 이들에게 각각 징역 14년, 9년, 7년을 구형했습니다.
대만 국민기업이라고 할 수 있는 TSMC의 핵심 기술이 일본 기업으로 유출됐을 가능성이 제기되면서 대만 사회는 큰 충격을 받았다고 현지 언론은 전했습니다.

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